日本光刻机巨头尼康的衰落：从行业霸主到亏损泥潭

2026年开春，日本产业界传来一则震撼消息：百年光学巨头尼康2025财年预亏850亿日元，创下公司史上最大亏损纪录。这一数字再次让日本产业颜面扫地。

尼康将亏损归咎于3D打印机业务拖累，但外界更关注其光刻机业务的惨淡表现：过去半年仅售出9台，且多为成熟制程设备。而荷兰ASML同期高端EUV光刻机就卖了20多台，总出货量达160台。9与160的差距，堪称尼康的挽歌。

东京尼康总部会议室里气氛凝重，会长马立稔和面色憔悴。作为公司光刻机技术核心高管，他见证过尼康的辉煌，如今的惨淡更让他痛心。

回溯至1980年代，尼康正值鼎盛时期，在专业相机与半导体光刻机领域双双登顶全球。其光刻机精度被誉为“在富士山顶命中东京街头缝衣针”，垄断全球半壁江山，美国GCA因此破产，ASML当时只是夹缝求生的小玩家。全球芯片巨头为求尼康光刻机，不惜成立对接团队常驻硅谷分部，甚至老板蹲点预付全款。

尼康的衰落藏在关键人物的博弈中，2002年是转折点。当时台积电资深处长林本坚提出浸没式光刻机构想：在镜头与晶圆间注水，利用水的高折射率突破193nm干式光刻机瓶颈。这一路线成本低、效果好，却遭尼康高管集体反对。他们认为精密镜头泡水是对光学工程的亵渎，且已在157nm干式技术投入7亿多美金，转向将前功尽弃。尼康不仅拒绝，还试图封杀该构想，甚至向台积电投诉林本坚“破坏行业共识”。

碰壁后的林本坚前往荷兰，ASML技术灵魂马丁·范登布林克对其想法欣喜若狂，押注所有资源联合台积电攻克技术。2004年ASML浸没式光刻机问世，横扫市场，尼康高端市场份额尽失。

浸没式技术失利后，尼康寄望EUV（极紫外光）技术翻盘。马立稔和主导EUV预研，提出“全自研、全日本产”，日本政府也以“产官学”模式投入数百亿日元支持。但ASML早已联合英特尔、三星、台积电及德国蔡司、美国Cymer等全球产业链形成EUV联盟，美国还将日系厂商排除在外，切断技术通道。尼康的全自研沦为闭门造车，至2018年投入超千亿日元仅得无法商用的原型机，最终终止EUV商业化开发。

尼康的悲剧本可避免：傲慢与盲目自信使其错失浸没式技术，后又迷信全自研陷入封闭。如今ASML领先，中国厂商蚕食中低端市场，尼康只能夹缝求生。2025年9月，尼康关闭运营58年的横滨工厂，70岁的马立稔和即将卸任，标志着日本光刻机时代落幕。他或许会想：“当年若给林本坚一次试验机会……”尼康的失败，是日本产业“加拉帕戈斯化”的缩影——科技产业中，傲慢、封闭比技术落后更危险，拒绝开放只会沦为进化孤岛。