摆脱日本技术掣肘 SK海力士携手本土企业研发EUV光刻胶

快科技12月7日报道，此前日本拟断供光刻胶的消息曾引发广泛关注。尽管日方否认了这一传闻，但不可否认的是，在光刻胶领域，日本企业确实对全球多数半导体公司形成了技术垄断。

特别是在先进的EUV光刻胶领域，当前市场主要由日本JSR、信越化学、东京应化TOK等企业主导。几年前日韩贸易争端期间，日本就曾暂停向韩国出口光刻胶等三种关键半导体材料。

近年来，韩国持续加大对半导体核心技术与材料的国产化投入。此前有消息称韩国已解决EUV光刻胶问题，实则不然——所谓的“解决”只是日本企业为规避政策限制，将对韩供货渠道从本土转移至海外子公司，韩国三星、SK海力士等企业仍依赖日本的EUV光刻胶供应。

与三星不同，SK海力士以存储芯片生产为主，此前对EUV光刻胶需求相对较低。但随着工艺升级，内存芯片也需大量采用EUV光刻工艺，为此SK海力士联合韩国东进世美肯公司共同开发EUV光刻胶。

双方合作的目标不仅是替代日本企业的EUV光刻胶，更要在性能上实现超越，尤其在光敏性方面，以提升生产效率。

光刻胶的光敏性越强，所需曝光时间越短，生产效率也就越高。即便使用相同的EUV光刻机，不同性能的EUV光刻胶也会影响最终的生产能力。

随着内存芯片工艺不断向10nm及以下节点推进，所需的EUV光刻层数持续增加，第七代1d工艺已需7层EUV光刻，未来这一数字还将继续上升。

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