LPDDR5X更轻更薄！明年的旗舰机型可能会选择

06-15 06:25

电子发烧友网综合报道，近日美光（Micron）宣布，全球首款基于全球首款发货。 1 γ 工艺的 LPDDR5X 内存样品。这个产品选择了第六代 10nm 等级 1 γ（1-gamma）DRAM，速度达到 10.7Gbps，可节省 20% 为了加速旗舰智能手机中包含人工智能的电量，（AI）实施数据密集型工作负荷，带来更快、更流畅的移动感受和更长的电池续航时间。

1 γ 工艺的 LPDDR5X 这是美光的首选 EUV 光刻技术创建的移动解决方案可以获得行业领先的容量密度。美光还使用了包括下一代在内的高度。 K 包括金属栅极技术在内 CMOS 为了提高晶体管的性能，实现更高的速度、更高的设计和更小的特征尺寸， 1 γ DRAM 节能带来多重优势，减少功耗，扩展性能。

该 LPDDR5X 在行业内提供最薄的 0.61mm 封装，比竞争对手的商品更薄。高度比上一代商品低6%。 14%。更小的 LPDDR5X 为智能手机制造商设计超薄或可折叠智能手机提供更多可能。

在选择合作伙伴的基础上，美光正在提供 1 γ 工艺的 16GB LPDDR5X 内存样品，可选容量 8GB 至 32GB，或者将于 2026 2008年选择旗舰智能手机。

三星电子是去年推出的 12 纳米等级 LPDDR5X DRAM 芯片，专为低功耗而设计 RAM 市场设计，主要面向设备端 AI 智能手机的能力。

三星高管正在谈论这个 LPDDR5X R&D设计表示，LPDDR5X 它是一种需要高性能的端侧，如智能手机、平板电脑和笔记本电脑。 AI 优化内存解决方案。考虑到便携式设备使用电池的特点，在实现最高速度的同时实现低功耗运行非常重要。考虑到设备的厚度和热值，使芯片本身变薄也是一项重要的任务。

三星 LPDDR5X 从规划到设计，工艺，PKG 与各开发部门的技术等合作，完成了行业内最快的合作。 10.7Gbps 当时行业内最薄的速度和速度 0.65mm 薄厚。

在行业内实现最快的目标 10.7Gbps 速度，必须保证高速数据传输输入输出电路的性能。另外，它还采用了降低内部运行电压的设计技术，在保持低功耗的同时实现高速运行。

为了达到超薄的厚度，三星将两个芯片组合成一个单元，形成四个单元的内聚系统，通过改变保护半导体电路的电路保护材料—— EMC(环氧树脂模塑料)进行优化。最后，背面抛光技术的开发尤为重要，它通过抛光晶圆背面来保持操作特性和可靠性，同时减少晶圆厚度。

除了市场上的形象 HBM 除了这种不计功耗、要求最高特性的产品外，对象 LPDDR 这类产品在低功耗下也能达到一定性能水平的需求也日益增加。对当前的替代品 DDR 模块 LP 模块商品（LPCAMM、SOCAMM 等待)也是如此。对于海量 AI 并行计算数据，提高数据传输速度尤为重要，这将导致用电量的爆炸式增长。LPDDR5X 能在实现高性能的同时消耗相对较低的功耗，是一种能应对趋势变化，极具吸引力的解决方案。

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