俄罗斯将开发自己的光刻机！声称比ASML便宜

自主研发已在俄罗斯公布 EUV 光刻机的路线图，其目标是制造比例 ASML 光刻机更便宜，更容易制造。该项目由俄罗斯科学院微结构物理研究所进行 Nikolay Chkhalo 领导。

俄罗斯的光刻机将采用 11.2nm 激光光源，和 ASML 标准的 13.5nm 不一样，这种波长的变化会提高分辨率 20%，简化设计，降低光电设备成本。因为 11.2nm 波长与现有 EUV 俄罗斯需要开发自己的光刻生态系统，而设备不兼容，这可能需要十年或更长时间。包括电子设计自动化工具在内的许多方面都需要更新，尤其是在曝光的关键过程中，如光罩数据准备、光学相邻校准和分辨率增强技术。

Chkhalo 指出，这种调整显著减少了光电设备的污染，延长了核心部件的使用寿命。俄罗斯光刻机还将使用硅基光阻剂，预计在短波长下会表现出更好的性能。虽然它的光源功率只是 3.6 KW，产量是 ASML 设备的 37%，但性能足以满足小规模芯片生产的需要。

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