龙图光罩90nm掩模版量产，积极规划28nm制程掩模版

07-31 06:18

电子发烧友网报道（文 / 莫婷婷）近日，龙图光罩宣布珠海项目顺利投产，公司第三代掩模版PSM产品取得显著进展。KrF - PSM和ArF - PSM已陆续送往部分客户进行测试验证，其中90nm节点产品已成功从研发迈向量产，65nm产品也已开始送样验证。

掩模版，也叫光罩，是集成电路制造时的图形转移工具或母板，承载着图形和工艺技术信息，广泛应用于半导体、平板显示、电路板、触控屏等领域。其作用是通过曝光，把承载的电路图形转移到硅晶圆等基体材料上，从而实现集成电路的批量生产。

长期以来，半导体掩模版市场被美国Photronics、日本Toppan和DNP等国际巨头主导。本土企业起步晚、技术积累薄弱，当前量产能力主要集中在350nm - 130nm中低端制程，130nm以下先进工艺布局不足。据中国电子协会官网数据，目前中国半导体掩模版国产化率约10%，90%依赖进口，高端掩模版国产化率仅约3%。

90nm先进工艺节点具有重要战略意义，它是衡量本土企业突破技术瓶颈、缩小与国际差距的关键指标，对推动我国半导体产业链自主可控意义重大。

90nm是连接成熟制程与先进制程的关键节点，其技术突破有助于填补国内中高端掩模版领域空白，提高国产化水平，还能为先进逻辑芯片、高性能模拟芯片及特色工艺（如先进封装）的发展提供有力支持。如今，以龙图光罩为代表的国内企业正加快技术追赶，逐步向65nm、40nm乃至更先进节点迈进，这标志着我国掩模版产业正迈向高端化与自主化的新阶段。

目前，龙图光罩在半导体掩模版领域的工艺水平大幅提升，已从130nm稳步提升至65nm，还完成了40nm工艺节点的产线配置。其产品应用广泛，不仅在信号链与电源管理集成电路等成熟制程领域发挥重要作用，还在功率器件、微机电系统（MEMS）传感器及先进封装等特色工艺制程中具有重要地位。

龙图光罩表示，公司更高制程节点的产品已在某全球领先的晶圆代工厂完成流片，在线收集的各项关键验证数据均符合客户要求。该节点验证通过后，公司将能满足该客户三分之一以上的产品需求。此外，更高等级的产品也在进行前期工艺匹配，预计下半年开始流片验证。

随着产品流片验证的推进，龙图光罩将覆盖更多客户。

产能方面，今年3月，龙图光罩称，深圳工厂目前产能利用率稳定在较高水平。由于掩模版产品高度定制化，需根据客户特定需求生产，很难达到理想的满产状态，但现有产能利用率能保障客户订单按时交付，同时兼顾产品质量和生产效率。珠海工厂年达产产能规划为1.8万片，预计达产产值为5.4亿元。

值得注意的是，珠海龙图IPO募投项目定位为130 - 65nm制程节点的半导体掩模版。二期工程公司将规划建设更高制程节点的掩模产品，目前正在进行二期厂房建设，并已启动28nm制程半导体掩模版的规划。

从龙图光罩对投资者问询的答复中，可以了解到其第三代掩模版PSM产品的研发进展：今年3月，龙图光罩回复投资者称，公司初步完成第三代光罩产品的工艺调试和样品试制，产能释放进度取决于客户工艺匹配、送样认证和开始小批量采购的周期。今年4月，龙图光罩表示，客户使用PSM样品流片的Wafer已成功下线，in line收集的各项验证数据均满足客户要求，产品验证和导入进展顺利，预计年内可正式投产。

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